安裝方式:設備側壁壁掛、獨立控制柜擺放;
控制模式:面板手動調壓調極性 / RS232、EtherCAT 工業總線對接 PLC 全自動控制;
工藝特性:無觸點極性翻轉,可實時采集吸盤漏電流,實現吸盤絕緣老化預警、晶圓在位判斷、殘壓中和防破片。
200/300mm 半導體晶圓刻蝕、PVD、CVD、離子注入量產腔體,配套 J-R 型工藝靜電吸盤;
碳化硅、超薄硅片庫侖力靜電卡盤精密夾持;
晶圓探針臺、半導體檢測設備高精度靜電固定。
高校實驗室、科研院所靜電吸盤原理驗證、工藝對比試驗;
設備研發樣機階段臨時供電、吸盤性能摸底測試;
小型光學鏡片、藍寶石襯底低壓庫侖吸盤靜態固定,無等離子強干擾工況。
J-R 型靜電吸盤專屬調試電源,適配等離子腔體高漏電工況,穩定維持吸盤吸附電壓;
中小尺寸 LCD/OLED 玻璃基板試制線、真空鍍膜基板夾持工裝;
等離子清洗、真空活化工藝基板靜電固定。
高壓庫侖力絕緣靜電吸盤主力電源,±10kV 高壓實現超薄晶圓、硬質基板大吸附力無應力夾持;
雙電極結構靜電卡盤、光伏硅片制程機架式設備配套;
顯示面板切割、貼合工序靜電固定。
8.5 代及以上大尺寸 LCD/OLED 玻璃基板 J-R 靜電吸盤量產主線設備;
大型光伏硅片、大板真空貼合、卷對卷真空鍍膜設備;
大面積吸盤分區吸附、分段剝離工藝,依靠大電流抵消等離子腔體感應雜散電荷。
設備原廠整機 OEM 內嵌配套,緊湊型真空腔體、晶圓機械手靜電夾爪;
微型檢測設備、自動化治具內部高壓供電;
整機小型化設計,無外置高壓控制柜場景,適配微型庫侖力靜電吸盤。
| 產品型號 | 安裝形態 | 核心優勢 | 短板 | 適配吸盤類型 | 連續量產能力 |
|---|---|---|---|---|---|
| HECD | 緊湊型整機 | 漏電流監測、晶圓狀態檢測、總線通訊、極性無觸點切換 | 成本高于經濟型機型 | J-R 型、庫侖力型通用 | 優秀 |
| HCU | 臺式整機 | 價格低、操作簡單 | 無監測功能、電流偏小、無工業總線 | 低壓庫侖力吸盤 | 一般(適合間歇使用) |
| HJC | 臺式整機 | 大電流輸出、適配高漏電負載 | 最高電壓僅 5kV,無法做高壓吸盤 | J-R 型吸盤專用 | 良好(中小批量) |
| HECA | 臺式 / 機架兩用 | 最高 10kV 高壓、雙通道可選 | 大電流極限不足 | 高壓庫侖力吸盤為主 | 優秀 |
| HEC | 機架整機 | 超大功率 200W、雙通道、長時間滿載 | 體積大、采購成本高 | 大尺寸 J-R 吸盤 | 頂級(7×24 量產) |
| HMEC | 嵌入式模塊 | 體積最小、屏蔽抗干擾、設備集成度高 | 無本地操作,無法獨立調試 | 微型庫侖力吸盤 | 良好 |
低壓靜態吸盤測試、高校課題研究
?采購推薦:HCU 系列
理由:入門成本低,即插即用臺式結構,滿足基礎靜電吸附工藝驗證,無需復雜工業控制功能,節約研發預算。
等離子 J-R 吸盤樣機調試、中試小線搭建
?采購推薦:HJC 系列
理由:30mA 大電流適配 J-R 吸盤漏電特性,臺式結構方便頻繁更換工裝、腔體調試,對比 HCU 電流余量充足,避免高壓壓降導致吸附失效。
高壓庫侖吸盤性能摸底、雙電極吸盤試驗
?采購推薦:HECA 單通道機型
理由:最高 10kV 高壓覆蓋全高壓吸盤規格,臺式機架兩用,樣機定型后可直接遷移至量產設備使用。
標準晶圓工藝腔體主力標配
?采購推薦:HECD 系列
理由:全兼容兩種靜電吸盤,獨1有吸盤老化、晶圓異常監測功能,直接降低晶圓破片、腔體故障停機概率,EtherCAT 總線適配半導體主流工控架構,是日韓晶圓設備主流標配型號。
緊湊型腔體、機械手靜電夾爪、設備整機配套
?采購推薦:HMEC 嵌入式模塊
理由:無外置電源機箱,簡化設備外部布局,提升腔體集成度,原廠設備批量配套采購性價比高。
高壓雙電極晶圓靜電卡盤
?采購推薦:HECA 雙通道機型
理由:兩路高壓獨立調壓,實現吸盤內外圈差異化吸附力,適配超薄晶圓翹曲矯正夾持工藝。
8.5 代及以上玻璃基板量產主線
?采購推薦:HEC 雙通道大功率機架款
理由:200W 超大輸出功率,支撐大面積 J-R 靜電吸盤全域電壓均勻性,抵御等離子環境電荷干擾,雙通道分區控制適配大板分段工藝,是面板廠主線唯1大功率選擇。
中小尺寸面板、光伏硅片量產設備
?采購推薦:HJC 系列
理由:平衡電流需求與采購成本,滿足中小尺寸基板量產連續工作需求。
緊湊型自動化設備、小型真空設備整機配套
?統一采購:HMEC 嵌入式模塊
模塊化供貨,固定安裝尺寸,標準化接線定義,整機出貨外觀整潔,客戶現場無需調試高壓電源。
標準半導體工藝設備整機出貨
?統一采購:HECD 系列
成熟量產機型,行業認可度高,終端客戶設備運維認知度高,售后技術支持難度低。
高壓量產設備:HECA 系列
標準晶圓量產:HECD 系列
設備內嵌集成:HMEC 系列
實驗研發測試:HCU 系列
?不推薦 HEC、HJC(電壓上限不足或功率過剩造成成本浪費)
超大尺寸面板量產:HEC 系列
臺式工藝試制調試:HJC 系列
標準晶圓腔體量產:HECD 系列
?不推薦 HCU(電流不足易吸附不穩)、HMEC(電流規格受限)
短期控成本(樣機、小試)
優先 HCU、HJC,按需選擇功率檔位,避免大功率型號閑置;
長期量產投資(主線產線)
優先 HECD、HEC、HECA,雖然初次采購價格更高,但憑借漏電流預警、無觸點極性翻轉設計,減少吸盤損壞、晶圓報廢、產線停機損失,綜合運維成本更低;
設備 OEM 批量采購
集中采購 HMEC 模塊,標準化型號,壓低批量采購單價,同時減少備品備件種類;
備品備件儲備建議
量產線主力機型(HECD/HEC)按照整機數量 5% 儲備備件;實驗機型無需備貨,故障直接整機返修。